導電式原子力顯微鏡 (Conductive Atomic Force Microscopy, 簡稱C-AFM)與AFM原理類似,皆是利用探針針尖與樣品表面原子之間的作用力,呈現樣品表面形貌。但不同之處在於,C-AFM在掃描樣品時,能同步施加偏壓(Bias),再由探針擷取電流得到電流圖(Current Map),經過判讀即可發現樣品電性的異常點。
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宜特一站式故障分析能量,可協助您先以電性故障分析偵測到亮點,並執行Decap/Delayer後進行SEM和C-AFM分析,更可接續以奈米探針電性量測( Nano Prober),對故障點精確定位後再進行材料分析,如雙束聚焦離子束(Dual-Beam FIB,簡稱DB-FIB)或是穿透式電子顯微鏡(Transmission Electron Microscopy,簡稱TEM)切片分析,找出異常點的真因。
案例分享
(a)製程開路故障示意圖;(b) C-AFM的I-V曲線結果。
(a)製程短路故障示意圖;(b) C-AFM的I-V曲線結果。
(a)製程閘極漏電故障示意圖;(b) C-AFM的I-V曲線結果。
(a)製程高阻抗故障示意圖;(b) C-AFM的I-V曲線結果。
樣品量測IV Curve最大電壓±10 V,限電流最大1uA,樣品直徑需小於2 cm,掃描範圍最大50x50 um2。