iST 宜特服務優勢
案例分享
- 晶體結構分析(晶格)
- 結晶性分析
- 織構(texture)分析
- 薄膜殘餘應力分析
- 倒晶格空間圖(RSM)分析
- XRR分析

Bruker New D8 Discover
X光源 | 6kW turbo X-ray spot size: 0.3*3mm |
偵測器 | LynxEye PathFinder |
其他功能 | 2 bounce monochromator Ge (002) Laser alignment |
- 半導體產業
- LED產業
- 光電產業
- 奈米材料研發
X光繞射分析(X-ray diffraction analysis, XRD) 是透過X光與晶體的繞射產生圖譜,並從圖譜資料庫比對,即可推論出材料晶體的排列結構、晶體排列的方式和奈米晶粒大小,以及單晶、多晶薄膜材料的結晶性分析等,為評估材料特性的一種非破壞式分析儀器。
宜特引進的XRD(X光繞射分析),同時也搭載XRR(薄膜X光反射X-ray Reflectivity)功能。XRD是運用繞射原理,而XRR則是XRD的反射圖譜,藉此可進一步得到薄膜厚度(達0.1nm厚度的精準度);樣品表面、層與層的介面粗糙度;薄膜的電子密度;甚至可以進行多層膜分析(總厚度限制在500nm以下),為非破壞分析薄膜材料特性的絕佳工具。
XRD最小光點分析力: 0.3mm
高功率,高強度X光源: 6kW
定點圖樣分析: 雷射光點定位
樣品分析尺寸:可放置12英寸晶圓,移動範圍8英寸
X光源 | 6kW turbo X-ray spot size: 0.3*3mm |
偵測器 | LynxEye PathFinder |
其他功能 | 2 bounce monochromator Ge (002) Laser alignment |