原子力顯微鏡 (AFM)

原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope, AFM），主要原理是藉由針尖與試片間的原子作用力，使懸臂樑產生微細位移，以測得樣品表面形貌起伏。

兩岸少數可分析12吋wafer的AFM實驗室，保存您完整晶圓以便後續進行其他實驗。
業界最大掃描面積，同時仍保有絕佳解析度的AFM profiler。
外加其他功能顯微鏡，分析應用之範圍更擴大。如CAFM導電式原子力顯微鏡（Conductive Atomic Force Microscopy, CAFM）和SCM掃描式電容顯微鏡（Scanning Capacitance Microscopy, SCM)。參見下表

	AFM	AFM profiler	CAFM	SCM
分析原理	針尖與試片間的原子作用力，以測得表面形貌起伏		探針在針尖或試片上施予電壓，以獲得樣品表面電流強度	經由導電探針取微分電容訊號轉為二維摻雜分佈影像
分析應用	1. 材料表面粗糙度檢測與結構觀察 2. 2D/3D 材料表面形貌影像 3. 奈米級縱深分析及尺寸量測		1. 偵測阻值偏高或漏電 2. 區別出 P+/ N+ /Poly contact 3. 對單點量測 I-V curve	P-N 型區域及其界面
機台規格	1. 試片大小(mm) : 200 x 200 x 15 2. 可放置(mm) : 300 x 300 (12"wafer) 3. 分析範圍(um) : 90 x 90 x 5	1. 試片大小(mm) : 300 x 300 2. 最大掃描長度(um)：50000	1. 放大器倍率： 10⁷ ~10 ¹¹ 2. 偏壓範圍： -10V~10V	1. 平面解析度： 20nm 2. 摻雜濃度範圍： 10¹⁵ ~10¹⁹ atom/cm³ 3. 掃描範圍： 90*90um/ 高度限制在 2cm 以內