iSTの強み
iSTは最高レベルのXPS – Quantera II走査型X線光電子分光装置を備えています。従来のXPSでは最小でも50μmまでの分析しかできませんでしたが、iSTQuantera IIでは7.5μmまで分析でき、サンプル表面の細かな構造まで分析でき、業界のニーズに対応しています。
事例紹介
- 表面汚染/変色の成分分析(Surface survey):サンプル表面100A以內の成分分析。
- 表面化学組成分析 (Narrow scan):サンプル表面が100A以內の元素化学組成結合分析。
- サンプルの酸化状況(酸化層の厚さおよび酸化状態)分析。
- 多層薄膜の深度プロフィル(Depth Profile):Arイオンでサンプルの表面をスプラッシュし、異なる深度の元素信号の深度分布を得ます。
- 図面分析(Mapping):サンプルエリア元素信号を分析し、特定エリアの元素分布影像図を得ます。
- ライン線走査(Line scan):サンプル直線上の元素信号を分析し、直線元素分布図を得ます。

PHI Quantera II X放射ビーム
- 最小直径:7.5um
- エネルギー分解能:0.48 eV (Ag3d5/2)
- 試料定位:SPS光学およびSXI影像
- 試料サイズ:<75mm

PHI VersaProbe 4 (VP4)
- 最小直径:10um
- Scanning Auger Microscopy Option (SAM)
- 20 kV Ar Gas Cluster Ion Beam Gun Option (GCIB)
- UltraViolet Source Option (UPS)
- Low Energy Inverse Photoemission Option (LEIPS)
半導体、LED、プリント基板、パネル産業において、表面元素分析は製品開発と生産ライン管理上の重要部分となっています。