首頁 Service X線回折(XRD) X線回折(XRD) 2017-07-03by ruby X線回折(X-ray diffraction analysis, XRD)は、X線と結晶を通じた回折によりスペクトルを生成し、スペクトルデータベースと比較して、材料結晶の配列構造、結晶の配列方式、ナノ結晶粒のサイズ、および単結晶、多結晶薄膜材料の結晶構造解析などを推論し、材料特性を評価するための非破壊分析装置です。 iSTのサービス iSTが導入しているXRD(X線回折)は、同時にXRR(X線反射率法による薄膜評価X-ray Reflectivity)機能も搭載しています。XRDは回折原理を利用している一方、XRRはXRDの反射スペクトルにより薄膜の厚み(0.1nm厚の精確度)、サンプル表面、層と層の界面粗さ、薄膜の電子密度も確認することができ、更には多層膜分析(総厚さ500nm以下に限定)も行うことができる、薄膜材料の非破壊分析の特性を備えた最良のツールです。 iSTの強み1市場をリードするXRDの最小スポット分析力: 0.3mm 2 ハイパワー、高強度X線源: 6kW 3 定点パターン分析:レーザースポットによる位置決め 4 サンプル分析サイズ:12インチウェハ対応可能、移動範囲8インチ 事例紹介XRD分析可能な材料特性2層ナノ薄膜Al2O3のXRR分析LEDエピタキシャル高解像度(HR)XRD分析 材料の格子構造特性分析応用 分析サンプル:Al2O3/Si 以下はシリコン基板上のアルミナ薄膜成長のX線反射スペクトルフィッティングの結果です。以下の表から、実際に、2層の異なる密度のアルミナ薄膜があり、上下層の厚さはそれぞれ0.94nmと6.69nmであることがわかります。また、アルミナ表面とシリコン基板の界面粗さはそれぞれ約0.49nmと0.23nmであることも観察できます。 分析サンプル:InxGa1-xN/GaN超格子 以下はLEDチップエピタキシャル構造の高解像度X線回折図です。フィッティングの結果の図から、超格子InxGa1-xN/GaNの厚さと組成比はそれぞれ2.4nm/14.35nmとx=16.27%であることがわかります。 応用範囲設備能力応用産業 結晶構造分析(格子) 結晶形態分析 テクスチャ(texture)分析 薄膜残留応力分析 逆格子空間マップ(RSM)分析 XRR分析 Bruker New D8 Discover X線源6kW ターボX線 スポットサイズ: 0.3*3mm 検出器LynxEye PathFinder その他機能 2バウンスモノクロメーターGe (002) レーザーアライメント 半導体産業 LED産業 オプティカル産業 ナノ材料R&D 連絡先 | 柳原俊明 | +81-90-4814-0372 | email: jp_sales@istgroup.com