IC有問題，想抓出缺陷，卻總是選錯分析方式與儀器?近乎隱形的製程問題，奈米等級的表面汙染缺陷，該如何選擇到位的分析方式呢?宜特在驗證分析領域耕耘20多年…
在晶圓尚未上電路(Pattern)之前，須了解晶圓是否平整，得以確認後續Layout狀況。當晶圓上了電路之後，更需監控粗糙度數據，才能確保後續上板後的品質…
常用來判斷P/N well的方式，是將晶片染色 (stain)後，再利用SEM(掃描式電子顯微鏡)拍攝其寬度、深度及量測磊晶層厚度，但是SEM的電子影像為黑白圖像，無法有確切的數據或顏色可以分辨P/N well，往往需要自行判斷與猜測…
Plasma FIB，不僅擁有Dual-Beam FIB雙槍設計邊切邊拍，針對大範圍結構觀察，可完整呈現欲觀察之結構，蝕刻效率更是Dual-Beam FIB的20倍以上..