挑戰矽霸權？TGV玻璃基板技術因優異的高頻與低損耗，成為先進封裝的新選項。然而，業界在推動 TGV 技術導入時，卻頻繁遇到製程良率、封裝機械強度、以及材料熱失配 (CTE mismatch)等問題。該如何找出失效真因，提升良率呢…
EELS 輕元素分析方法你認識嗎? 在TEM成份分析中，你是否也習慣依賴EDS解決所有問題？但一遇到輕元素、化學態判讀，資料卻模糊不清。其實，這不是儀器不夠力，而是你還沒認識EELS這項高解析利器…
可靠度測試往往需要漫長的時間驗證，您是否只能依賴外部實驗室提供的數據，靜待結果？在測試過程中，如何能隨時掌握產品的測試數據，縮短決策時間，提升開發效率呢？…
為了精確找出IC內部缺陷，非破壞性的3D X-ray驗證已成為半導體業界的關鍵手段。然而，經過高劑量輻射處理的IC，在後續可靠度測試中卻可能提前失效！隨著半導體逐漸應用於AI、車用、航太與醫療設備等需要超高可靠度的領域，如何有效量測並控制這些寄生輻射對IC的影響，已是工程師不得不面對的重大挑戰…
在IC設計這條路上，就算模擬結果看起來完美得像神作，一上晶片還是可能冒出讓人崩潰的電路異常。這不只是花錢重投片的問題，更是會把專案時程拖到天荒地老，客戶追殺。更慘的是，碰到電路有問題時，工程師最常面對的困擾就是：找不到defect，完全搞不清楚要接哪條線、切哪個位置，debug起來簡直讓人懷疑人生…
隨著半導體技術的不斷演進，奈米區域成份分析在新製程開發中的重要性日益凸顯。透過透射電子顯微鏡/能量分散光譜(TEM/EDS)技術，研究人員能夠深入鑑定奈米區域的成份訊息。然而，在進行TEM/EDS成份分析時，特別是涉及碳、氮、氧等輕元素…
2020年Intel就已提出矽光子將是先進封裝發展關鍵，如今四年過去，矽光子技術已真正成為半導體產業的關鍵研發核心，並預計兩年後將完成整合正式上陣。面對這次的「電」去「光」來新革命，您準備好了嗎？…
隨著半導體製程已逼近物理極限，各國大廠不斷從材料著手想要突破研發瓶頸，材料分析對於改善半導體缺陷、提升製程良率是非常重要的關鍵。現今的工程師想要解析微奈米材料時，經常會使用電子顯微鏡加裝X光能量散佈能譜儀…
車用IC上板至PCB的焊點可靠度測試（BLR）以往僅在AEC-Q104標準中稍作提及。終於在今年三月，眾人引頸期盼之下，針對車用板階可靠度的AEC-Q007標準問世。現在就讓我們快速了解一下AEC-Q007到底包含了哪些內容吧…