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双束聚焦离子束(Dual-beam FIB)
 
 
 
 
 
 
 



双束聚焦离子束样品制备(Dual-beam FIB)
 

iST宜特建置业界最高阶FEI Helios 450S机台及FEI Helios 600机台,采三班制24小时运作,提供客户快速交期的高质量服务。

Dual-beam FIB机台能在以离子束切割样品时,同时用电子束对断面进行观察。宜特所建置的业界最高阶机台,具备超高分辨率的离子束及电子束。能针对样品中的微细结构进行奈米尺度的定位及观察,大幅提升失效分析及TEM样品制备的成功率与影像质量。

iST宜特建置之聚焦离子束与电子束双束系统,其硬件基本规格如下:
   机型 : FEI Helios Series
   Sample dimension: 75 – 150mm
   Specimen stage: 5 - axis motorized stage
   Working distance: ~4mm
  
E-beam I-beam
Resolution 0.8 nm at 15kV
1.2 nm at 1 kV
4.0 nm at 30 kV
Acceleration voltage 50 V – 30 kV 0.5 kV – 30 kV
Probe current ≦22 nA 1.5 pA – 65 nA

双束型聚焦离子束显微镜的应用,主要以下列所述为主:
    半导体组件故障分析(能力可达20nm高阶制程)
    半导体生产线制程异常分析
    磊晶与薄膜结构分析
    电位对比测试
    穿透式电子显微镜试片制作
    奈米级结构制作

 
Cross-section Analysis
 
Omni-probing and TEM sample preparation
 
 
 

LED QW structure
 
 
 

Dual Beam、双束、剖面
中国免费咨询电话 800-988-0501
marketing_cn@istgroup.com
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